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此工藝為一新鉻酸基鍍硬鉻工藝,且較以前鍍硬鉻工藝有重大改變。
一、特點:
1、?陰極效率高(高達26%)
2、?不含氟化物及其它鹵素(不腐蝕基體)
3、?鍍層硬度1100-1250 HV,微裂紋大于300/cm
4、?良好的分散能力
5、?不易腐蝕陽極
二、操作條件
|
范圍 |
合適值 |
鉻酐 |
240-260g/L |
250g/L |
硫酸 |
1.4-2.6g/L |
2.5g/L |
?Chrome HS添加劑 |
20-40ml/L |
20ml/L |
溫度 |
53-60℃ |
55℃ |
陰極電流密度 |
10-100A/dm2 |
|
陽極電流密度 |
5-50 A/dm2 |
|
Met Fin鉻防霧劑 |
三、開缸
鉻酐?250g/L , Chrome HS添加劑20ml/L
1、加入65%體積的水
2、加熱至50℃,然后加入后需量鉻酐并充分攪拌至完全溶解
3、緩慢加入硫酸及Chrome HS添加劑,并同時攪拌
4、加水至規定體積,充分攪拌
5、若需要可加適量Dermid鉻防霧劑
6、加熱至操作溫度
7、在正常操作電流密度下,陰極電解至少4小時
8、此時鍍液可以使用
四、鍍液維護
可定期取樣送至美堅公司分析,經分析后會建議如何維護調整.
1、每1000安培小時添加150g鉻酐,4ml ??Chrome HS添加劑;
2、溶液密度控制:
鍍液液位可由添加水來維持,或者由未被污染的回收槽液來添加,為更準確測試鍍渡密度,測試前或取樣前應充分攪拌鍍液,密度下降可添加鉻酐來提高,以下表格可作指引:
S.G |
°TW |
°Be |
鉻酐加入量(g/L) |
Chrome HS添加劑加入量(g/L) |
1.190 |
38.0 |
23.1 |
0 |
0 |
1.187 |
37.4 |
22.8 |
0 |
0 |
1.184 |
36.8 |
22.5 |
0 |
0 |
1.181 |
36.2 |
22.2 |
0 |
0 |
1.178 |
35.5 |
21.8 |
0 |
0 |
1.175 |
34.9 |
21.5 |
5 |
0.15 |
1.172 |
34.3 |
21.2 |
10 |
0.25 |
1.169 |
33.7 |
20.9 |
15 |
0.4 |
1.165 |
33.0 |
20.5 |
20 |
0.5 |
1.162 |
32.4 |
20.2 |
25 |
0.6 |
1.159 |
31.8 |
19.9 |
30 |
0.8 |
1.156 |
31.2 |
19.6 |
35 |
0.9 |
1.150 |
29.9 |
18.8 |
45 |
1.2 |
1.147 |
29.3 |
18.4 |
50 |
1.3 |
1.144 |
28.7 |
18.1 |
55 |
1.4 |
1.141 |
28.1 |
17.8 |
60 |
1.6 |
1.137 |
27.4 |
17.4 |
65 |
1.7 |
1.134 |
26.8 |
17.0 |
70 |
1.8 |
1.128 |
25.6 |
16.4 |
80 |
2.1 |
硫酸根偏低添加硫酸來補充,過量硫酸根以添加氫氧化鋇來打掉(3g/L氫氧化鋇打掉1g/L硫酸);或添加碳酸鋇(2g/L碳酸鋇打掉1g/L硫酸),先用熱水將氫氧化鋇溶解,然后加入鍍液中,
充分攪拌10分鐘;或用熱水將碳酸鋇溶解,然后加入鍍液中,至少一小時后才可以施鍍。
Chrome HS添加劑只能通過電解或稀釋來降低濃度,濃度過高會影響鍍層質量。可適當的使用鉻防霧劑(當地法律要求),建議使用Liquimist HC(N8201)。
注:若鍍層厚度超過50微米,則使用防霧劑鍍層易起麻點;若有此情況,防霧劑用量應控制或者通過試驗來確定用量。
五、設備
1、?槽體:鋼鐵內襯塑膠槽,能耐熱、耐強鉻酸或鋼鐵內襯鉛槽,可防止在塑膠或玻璃槽內出現的電流偏差。
2、?加熱/冷卻:鈦管加熱器或鐵弗龍加熱器。
3、?電源:9-15伏直流整流器,誤差不超過5%。
4、?排風:若不使用鉻防霧劑,要安裝優良的排風設備,若使用防霧劑也要安裝適當排風設備,并定期檢驗。
六、陽極:使用含錫7%的鉛錫合金,推薦使用Korant型陽極,在空氣與液面交界處使用PVC套子來套緊陽極以保護之,陽極面積要足以滿足陰極電流分布控制三價鉻含量在一定水平。
七、廢水處理
建議廢水經專業設備集中處理,若有需求可向公司索取相關資料。
八、訂貨信息:
產品?編號?包裝
HC硬鉻添加劑?N8720? ? ? ? ? ? ? ?25KG